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日前有报道称，ASML将面向中国市场推出特别版DUV光刻机，不过此事已经辟谣，ASML表示一直以来ASML都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

此前消息称，ASML推出的特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造，而1980Di是10年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。

1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机，支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm，理论上可以支持7nm工艺。

大多数晶圆厂使用1980Di光刻机，主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用其生产7nm芯片。

最近荷兰发布新规定，企业出口先进设备需要申请许可，9月1日后生效。

ASML表示，根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。

荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。